薄膜晶体管

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薄膜晶体管(薄膜-,ThinFilmTransistor,TFT,术语:薄膜三极管磁性液晶显示器件,薄膜三极管显示器件)是场效应晶体管(FET)的一种,其形式为薄膜。基本上是一种三端器件(背栅(B)不存在)。薄膜晶体管主要应用于液晶显示器。1949年发布了采用CdSe作为半导体有源层的TFT,用于固态1973年公布了驱动显示器(LCD)的实例。半导体中有使用Si的非晶硅薄膜和多晶硅薄膜。发展取得进...

什么是薄膜晶体管

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薄膜晶体管(薄膜-,Thin Film Transistor,TFT,术语:薄膜三极管磁性液晶显示器件,薄膜三极管显示器件)是场效应晶体管(FET)的一种,其形式为薄膜。基本上是一种三端器件(背栅(B)不存在)。薄膜晶体管主要应用于液晶显示器。1949年发布了采用CdSe作为半导体有源层的TFT,用于固态1973年公布了驱动显示器(LCD)的实例。半导体中有使用Si的非晶硅薄膜和多晶硅薄膜。发展取得进展。非晶硅和多晶硅薄膜晶体管已广泛应用于彩色TFT -LCD。

薄膜晶体管

薄膜晶体管按功能分类

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根据栅极端子位置的不同,有四种类型:交错型、倒交错型、共面型、倒共面型。

在倒置型中,栅极端子附着在基板上;在交错型中,漏极端子和源极端子添加在与沟道层偏移的轴上;在牛平面型中,漏极端子和源极端子直接附着通道层旁边,有可以附加的功能。

与一般的MOS不同,由于电导是通过形成积累层而不是反型层来形成的,所以n型载流子是电子,p型载流子是空穴,可以清楚地看到,沟道层中没有看到增加了通用MOS结构。

薄膜晶体管一词源于通过真空沉积、溅射或使用等离子体化学气相沉积(等离子体CVD)在玻璃或石英等基板上形成半导体层、栅极绝缘膜、构成晶体管的电极、保护绝缘膜,并以塑料为基板进行研究开发。

由于没有形成反型层,所以阈值(阈值电压)的含义与MOS不同。不存在)基本公式或概念与MOS相同,因此可以照原样应用该概念。

薄膜晶体管类型和特征

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目前,氢化非晶硅(a-Si:H:氢化非晶硅)广泛用于沟道层,但存在阈值电压随时间、栅极电压和温度不稳定的问题。

由于沉积电子的影响,这分为三种类型。

  • 带隙内部存在的亚稳态:基本上是栅极施加电压较低时的主要因素
  • 绝缘层内部:电压较低时
  • 界面状态:通常被忽略

一些制造商正在采取措施,通过施加电压并加热一定时间,将不稳定的价带连接稳定为悬空键(缺陷),通过栅极施加电压激发(返回到原始值)。

此外,使用有机材料的薄膜晶体管和透明薄膜晶体管的研究也在积极进行。

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  1. 什么是薄膜晶体管
  2. 薄膜晶体管按功能分类
  3. 薄膜晶体管类型和特征

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